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晶间腐蚀是局部腐蚀的一种及局部腐蚀产生的原因

2020-09-01

晶间腐蚀是局部腐蚀的一种。具体的测试项目可以了解一下精川材料检测网站内容信息

局部腐蚀是‘攻弱致死”的腐蚀破坏。抵抗腐蚀破坏的薄弱部位,可以分别是材料和介质引起的,而它们的叠加,则更为严重。局部腐蚀产生的原因包括如下几类。




(1)材料的不均匀性引起的:

①成分的选择性腐蚀黄铜的脱锌;

②晶间腐蚀沿晶界区的腐蚀;

③复相合金夹杂物引起的点蚀。

(2) 介质的不均匀性引起的-在缝隙、蚀坑、裂纹等的内部,由于几何形状的限制和.或腐蚀产物的覆盖,腐蚀介质的扩散受到了很大的限制,形成了局部平衡的“闭 塞电池”(Occluded Cell),在闭塞电池内部的介质成分,与整体介质有很大差异。这种介质的不均勾性,将会导致缝隙腐蚀,并且是理解点蚀及应力腐蚀的基础之一。很显然,在缝隙内发生的晶间腐蚀,破坏性将更严重。典型的闭塞电池腐蚀的研究结果,指明了闭塞区内的化学介质成分和浓度,与整体的化学介质有很大的差异. 这是-一个重要的基本概念,对于理解局部腐蚀的机理是重要的,例如:

(1)在雨水及海水中,裂纹尖端区的pH值约为4,这是高强度钢在这些介质中应力腐蚀断裂的氢脆机理中的必要条件;

(2)在沸腾的MgCl2溶液中,奥氏休不锈钢裂纹内的pH为1。当电位为- 100mV时,发生H+的还原反应,并为实验所证实;

(3)在不同的条件下,闭寨区内会有不同离子的富集,例如,锅炉用水中,由于水处理使之残留微量的NaOH,在结合不紧密的缝隙区,如铆接处、沸水管的扩口部分、汽轮机叶轮的键槽等处,由于不均匀的蒸发,碱的浓度可达到很高,电极电位的测定结果指出,铁在1mol/L及16mol/L的NaOH中的电位分别为+0.1及- 0.86V,因此,在闭塞区可以使铁溶解,这是碱脆机理中的必要条件。


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